您当前所在的位置:主页 > 产品与服务 > 研磨抛光耗材
IDI水基研磨液悬浮剂 Challenge 543-HT

适用于蓝宝石、碳化硅、精密光学、精密光学等行业

优点:
更好的工件平面度;

没有划伤;

更少的亚表面损伤;

研磨后的工件易于清洗;

提升研磨速率;

更好的研磨一致性;

节省研磨料的使用;

 

使用指导:

CHALLENGE 543-HT 应配合去离子水和磨料使用,并按以下比例配置:去离子水磨料 CHALLENGE 543-HT 77~82% 15~18% 3~5% 搅拌器应使用推进式叶轮,转速需能达到1750rpm,使用蠕动泵进行供液。将磨料和去离子水混合并使搅拌器在1000rpm的转速下搅拌3分钟,使得研磨粉颗粒充分分散;添加CHALLENGE 543-HT,持续搅拌约10分钟,在搅拌过程中应避免空气的吸入;关闭搅拌器或将搅拌器的转速调低至50rpm。如需更详细的配置指导,请向供应商索取。

 

其他信息:

CHALLENGE 系列产品的标准包装为5 加仑(美制)小桶和55加仑(美制)大桶。

制造商: Intersurface Dynamics,Inc. (美国)


留言下单